激光熔覆粉末

激光熔覆是指以不同的添料方式在被熔覆基体表面上放置被选择的涂层材料经激光辐照使之和基体表面一薄层同时熔化，并快速凝固后形成稀释度极低，与基体成冶金结合的表面涂层，显著改善基层表面的耐磨、耐蚀、耐热、抗氧化及电气特性的工艺方法，从而达到表面改性或修复的目的，既满足了对材料表面特定性能的要求，又节约了大量的贵重元素。

与堆焊、喷涂、电镀和气相沉积相比，激光熔覆具有稀释度小、组织致密、涂层与基体结合好、适合熔覆材料多、粒度及含量变化大等特点，因此激光熔覆技术应用前景十分广阔。

主要牌号

牌号	化学成分Norminal Composition（wt%）										Remark
Alloy	C	Si	Cr	Ni	Mn	Mo	Cu	W	V	Fe	Remark
316L			16.0-18.0	10.0-14.0		2.0-3.0	-	-	-	Bal.
304L			18.0-20.0	8.0-12.0		-	-	-	-	Bal.
310S			24.0-26.0	19.0-22.0		-	-	-	-	Bal.
17-4PH			15.0-17.5	3.0~5.0		-	3.00-5.00	-	-	Bal.	Nb:0.15-0.45
15-5PH			14.0-15.5	3.5~5.5		-	2.5~4.5	-	-	Bal.	Nb:0.15-0.45
4340	0.38-0.43	0.15-0.35	0.7-0.9	1.65-2.00	0.6-0.8	0.2-0.3	-	-	-	Bal.
S136	0.20-0.45	0.8-1.0	12.0-14.0	-		-	-	-	0.15-0.40	Bal.
D2	1.40-1.60		11.0-13.0	-		0.8-1.2	-	-	0.2-0.5	Bal.
H11	0.32-0.45	0.6-1	4.7-5.2	-	0.2-0.5	0.8-1.2	-	-	0.2-0.6	Bal.
H13	0.32-0.45	0.8-1.2	4.75-5.5	-	0.2-0.5	1.1-1.5	-	-	0.8-1.2	Bal.
M2	0.78-0.88	0.2-0.45	3.75-4.5	-	0.15-0.4	4.5-5.5	-	5.5-6.75	1.75-2.2	Bal.
M4	1.25-1.40	0.2-0.45	3.75-4.5	-	0.15-0.4	4.5-5.5	-	5.25-6.5	3.75-4.5	Bal.
T15	1.4-1.6	0.15-0.4	3.75-5.0	-	0.15-0.4	-	-	11.75-13	4.5-5.25	Bal.	Co:4.75-5.25
30CrMnSiA	0.28-0.34	0.9-1.2	0.8-1.1	-	0.8-1.1	-	-	-	-	Bal.
SAE-1524	0.18-0.25	-	-	-	1.30-1.65	-	-	-	-	Bal.
4605	0.4-0.6		-	1.5-2.5	-	0.2-0.5	-	-	-	Bal.
8620	0.18-0.23	0.15-0.35	0.4-0.6	0.4-0.7	0.7-0.9	0.15-0.25	-	-	-	Bal.

常用规格

粉末规格 Particle Size	振实密度(g/cm³) Tapping Density	粒度分布Particle Size Distribution(μm）
粉末规格 Particle Size	振实密度(g/cm³) Tapping Density	D10	D50	D90
15-53μm	4.4-4.9	17-22	30-34	48-55
53-120μm	4.5-4.8	48-56	70-78	96-110
53-150μm	4.5-4.8	56-66	85-97	125-150

首页 ꄲ 激光熔覆粉末

넳 넲